IB-19520CCP 截面樣品制備裝置
詳細介紹
★ 冷卻的效果 樣品：鍍鋅鋼板
可提供500μm/h（8KV/2小時的平均值）的研磨速率。
Specimen: Galvanized iron steel
※ 通常加工（無冷卻）時，鐵和鋅的接合面上能夠觀察到間隙，而冷卻加工時則沒有間隙
★ 使用溫度控制系統(tǒng)（選配件）冷卻 樣品：硅晶片接合面
Normal milling Cooling Cooling temperature control
(without cooling) (holder temperature -150℃) (holder temperature -20℃)
Accelerating voltage 6kV Accelerating voltage 6kV Accelerating voltage 6kV※ 常規(guī)加工由于熱損傷造成粘合劑變形，出現(xiàn)了很大的間隙。 -150 ℃時，冷卻過度，能觀察到膠粘劑和硅晶片研磨面的接合面上出現(xiàn)了間隙，但通過溫度控制冷卻則沒有間隙。
★ 合理利用間歇加工、冷卻功能和溫度控制冷卻功能可支持各種樣品的制備
★ 進程監(jiān)控功能
截面加工狀態(tài)可通過CCD相機實時監(jiān)控，倍率還可調(diào)整。
★ 防止充放電的噴鍍功能
備有離子束濺射功能（選配項）
可以噴涂顆粒感良好的薄涂層。
最適合于象EBSD等需要花樣識別等情況。★ 平面離子減薄樣品架
以小角度的離子束低角度照射樣品，達到清除表面污垢、平滑表面等效果。
另外也非常適合于選擇性蝕刻。★ 截面樣品制備單元
安裝在平面離子減薄樣品架上使用。該單元可用于在旋轉(zhuǎn)樣品的同時進行離子束加工。
可以用來制備象多孔質(zhì)材料、粉末、纖維等容易出現(xiàn)加工條紋的樣品的截面。
| 離子加速電壓 | 2 ～ 8 kV |
| 離子束直徑 | 500 um( FWHM) |
| 研磨速率 | 500 um（兩小時的平均值、8 kV、硅材質(zhì)換算、突出量:100 um） |
| 樣品架冷卻達到的溫度 | -120 ℃ |
| 樣品冷卻持續(xù)時間 | 8小時以上 |
| 制冷箱容量 | 約1升 |
| 承載樣品的最大尺寸 | 11mm(長) × 8mm（寬）× 3mm（厚） |
| 樣品臺移動范圍 | X軸：±6mm、Y軸：±2.5mm |
| 固定樣品方法 | 夾式 |
| 樣品加工擺角 | ±30° |
| 加工觀察用相機的倍率 | 約20～100倍（6.5寸顯示器上） 機械泵: 150 mm（寬） × 427 mm（長） × 230 mm（高）、約16 kg |
| 空氣隔離系統(tǒng) | 轉(zhuǎn)移艙 |
| 空氣隔離法 | 將艙內(nèi)設定成氬氣氣氛，蓋上轉(zhuǎn)移艙蓋子，將樣品封在艙里。 |
| 操作方法 | 觸控屏、6.5寸顯示器 |
| 使用氣體 | 氬氣(用質(zhì)量流量控制器控制流量) |
| 壓力測試 | 潘寧真空計 |
| 主抽真空系統(tǒng) | 渦輪分子泵 |
| 輔助抽真空系統(tǒng) | 機械泵 |
| 尺寸、重量 | 主機：約670mm (寬) × 720mm(長) × 530mm(高)、約73kg 機械泵：約150 mm (寬) × 430 mm(長) × 230 mm(高)、約16kg |
| 選配件 | 大型旋轉(zhuǎn)樣品架（IB‐11550LSRH)、（IB‐11550LSRH) 基座樣品架 （IB‐11560MBSH) 大型樣品架（IB-11570LSH) 噴碳樣品架（IB-12510CCH） |
| 電源 | 單相100～120 V±10%、50/60 Hz、0.6 kVA |
| 接地線 | 獨立地線(100 Ω以下) |
| 氬氣 | 使用壓力：0.15±0.05 MPa(1.0 ～ 2.0 kg/cm2) 純度99.9999%以上(氬氣、氣瓶及調(diào)壓器由客戶自備) 金屬配管連接口:JISB0203 RC1/4 |
| 室溫 | 15～25 ℃ |
| 濕度 | 60%以下 |
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