用于光學(xué)薄膜及電極膜等各種薄膜形成的電子束蒸鍍用電子槍/電源。
電子束蒸鍍法的特征
用電子束直接照射鍍膜材料進行加熱,因此熱效率高,能蒸發(fā)高熔點金屬、氧化物、化合物、升華性物質(zhì)等各種材料。
鍍膜材料在水冷銅坩堝內(nèi)(*)被直接加熱,因此不會象電阻加熱式或感應(yīng)加熱式那樣與坩堝發(fā)生反應(yīng)。
*可能需要使用坩堝內(nèi)襯。
能迅速控制輸出,因而能精確地控制膜厚。
與濺射法及 CVD 法相比,能快速鍍膜是一大特征。
對形成1μm 以上的厚膜也很有效。
日本電子制造的電子槍/電源的特征
[ 氧化物 ]
電子束垂直照射鍍膜材料,束斑近似圓形,具有能量密度高的特征。此外,由于標(biāo)準(zhǔn)配備了快速掃描功能,非常適合蒸鍍?nèi)邳c高、熱傳導(dǎo)性低的氧化物及升華性材料,能獲得良好的熔痕,大面積的鍍膜區(qū)域上膜厚分布均勻,重現(xiàn)性好。
[ 金屬 ]
坩堝的選擇范圍很大,能進行多種、大量、高速率的蒸鍍,還有用來抑制成膜時溫度上升的剝離工藝用電子槍。
[ 合金復(fù)合膜 ]
往臨近的兩個或三個坩堝內(nèi)充填不同的材料,使用專用的掃描控制器進行雙源或三源蒸發(fā),可以形成合金膜和復(fù)合膜。
型號 | 最大輸出功率 | 偏轉(zhuǎn)角度 | 燈絲 | 電子束掃描 | 坩堝 | 氧化物 | 金屬 |
BS-60060DEBS | 6.4kW | 270° | U字形 (長壽命) | 快速 掃描 | 無*2 | ◎ | ○ |
BS-60050EBS | 10kW | 270° | 無*2 | ◎ | ○ | ||
BS-60040VDGN | 10kW | 270° | 無*2 | ◎ | ○ | ||
BS-60030DGN | 10kW | 270° | 無*2 | ◎ | ○ | ||
EBG-102UB6S | 10kW | 180° | 漩渦形 | 12cc×6 個 | ◎ | ○ | |
EBG-102UB4S | 10kW | 180° | 12cc×4 個 | ◎ | ○ | ||
JEBG-102UH0 | 10kW | 180° | 無*2 | ◎ | ○ | ||
BS-60210DEM +BS-60140H4H | 10kW | 270° | 直線線圈形 (長壽命) | 中速 掃描 | 40cc×4 個 | △ | ◎ |
BS-60210DEM +BS-60150H6H | 10kW | 270° | 40cc×6 個 | △ | ◎ | ||
EBG-203UB6S | 20kW*1 | 270° | 漩渦形 | 快速 掃描 | 12cc×6 個*3 | ○ | ◎ |
EBG-203UB4H | 20kW*1 | 270° | 12cc×2 個 28cc (半球)×2 個 | ○ | ◎ | ||
JEBG-203UA0 | 20kW*1 | 270° | 無*4 | ○ | ◎ | ||
JEBG-303UA | 30kW*1 | 270° | 無*5 | ○ | ◎ |
*1: EB電源最大輸出功率為16kW,實際能使用的最大輸出功率為16kW。
*2: 可以定制 ?12cc×4 或6個 等
*3: 坩堝小凹孔的形狀可以改變 ? 28cc(φ45×20h)×6個, 51cc(φ60×20h)×3個等。
*4: 可以定制 ?40cc(φ50×25h)×4或6個, 114cc(φ75×30h)×1個等
*5: 可以定制 ?114cc(φ75×30h)×1個, φ34×20h×3個小凹穴(同時蒸鍍用), φ70×30h×4個 等
關(guān)于坩堝規(guī)格請另行咨詢。